快科技5月14日消息，据报道，荷兰政府已就美国国会拟议的《硬件技术控制多边协调法案》（Match Act），向美方提出异议。该法案由美国两党议员联合提出，旨在进一步限制ASML向中国销售浸润式深紫外光刻机（浸润式DUV），并禁止其为在华现有客户提供售后服务。荷兰外贸与发展合作大臣舍尔茨玛在5月12日公布的致美国立法者的书面答复中明确表示，荷兰内阁反对该法案中固有的“域外管辖”效力。他指出，此类宽泛的限制措施不仅可能对包括荷兰企业在内的半导体公司营收产生重大冲击、削弱其市场地位，还可能破坏贸易与投资环境的可预测性。他还表示，各国均有责任制定并实施本国的出口管制法规，不应由单方面立法越俎代庖。目前ASML已被禁止向中国出售最先进的极紫外光刻机（EUV），浸润式DUV是其仍能对华出口的核心产品线。若法案按当前形式通过，意味着ASML几乎彻底失去中国市场，包括已售设备的售后服务能力。舍尔茨玛还透露，在荷兰王室上个月访美期间，荷兰首相、外交大臣及贸易部门已向美方当面传达了这一立场，但美国国会方面尚未作出回应。【本文结束】如需转载请务必注明出处：快科技责任编辑：黑白
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